該設備采用磁控濺射技術：

腔體抽至高真空；

通入氬氣，電場電離產生氬離子；

離子在磁場約束下高速轟擊金/鉑/鉻等靶材；

靶材原子被濺射到樣品表面，形成納米級均勻導電膜。

本公司提供的IBS150 CIF離子濺射儀特點：

智能觸控，數據可視：7英寸彩色觸摸屏，支持中英文界面，實時監測并調控工藝參數；可存儲20組配方程序，數據全程可追溯，確保工藝標準化與重復性。

靈活操控，雙模式適配： PLC控制系統，支持手動/自動切換，適應多樣應用場景，操作更自由。

控氣，工藝兼容性強：氣體流量自動調節，內置質量流量計，控制氣體流量，支持氧氣、氬氣、氮氣等多種工藝氣體，滿足多樣化鍍膜需求。

均勻鍍膜，一致性高：樣品臺可旋轉并具備高度調節功能，顯著提升膜層均勻性與一致性，適配多種靶材。

人性化設計，操作舒適：60°傾角操作面板，符合人機工程學，界面清晰簡潔，操作流暢便捷。

低溫處理，樣品無損：鍍膜過程中樣品溫度維持在40–50℃，有效避免熱損傷與熱氧化，保留樣品本征特性。

潔凈防護，避免污染：配備氣體返填吹掃與HEPA高效過濾系統，防止污染物殘留，確保鍍膜環境潔凈可靠。

多重安全保障：艙門開啟自動斷電，內置多項安全保護機制，使用更安心。

CIF離子濺射儀廣泛適用于以下領域：

科研實驗：材料科學、半導體、新能源等領域的高精度鍍膜需求。

精密制造：為掃描電子顯微鏡、透射電鏡等儀器制備導電薄膜，增強非導電或導電性差樣品的觀測效果。

工業生產：適用于芯片粘結工藝前、引線鍵合和覆晶封裝工藝前的表面處理，提升產品質量與可靠性。